ПРОЦЕССЫ РАЗЛОЖЕНИЯ ХЛОРПРОИЗВОДНЫХ ФЕНОЛА ПОД ДЕЙСТВИЕМ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ РАЗРЯДОВ

АННА СЛАВИКОВНА МАНУКЯН; ВЛАДИМИР ВЛАДИМИРОВИЧ РЫБКИН

doi:10.6060/rcj.2020642.4

АННА СЛАВИКОВНА МАНУКЯН Ивановский государственный химико-технологический университет
ВЛАДИМИР ВЛАДИМИРОВИЧ РЫБКИН Ивановский государственный химико-технологический университет

DOI: https://doi.org/10.6060/rcj.2020642.4

Ключевые слова: электрический заряд, производные хлорфенола, разложение

Аннотация

Проведено аналитическое рассмотрение процессов, протекающих при действии различных типов электрических разрядов атмосферного давления на водные растворы хлорпроизводных фенола. Показано, что из всех исследованных разрядов диэлектрический барьерный разряд в кислороде является наиболее эффективным. Он обеспечивает 100 % деструкцию при высоких скоростях разложения и хорошие энергетические показатели. Другие методы АОР(Advance Oxidative Processes, УФ-воздействие, реагенты Фентона, реагенты Фентона с УФ излучением) существенно уступают методам, с использованием разрядов по скоростям разложения и энергетическим эффективностям. Рассмотрено влияние различных параметров разряда, катализаторов, вида плазмообразующего газа на эффективность деструкции. Приведены данные о продуктах деструкции хлорфенолов, на основании которых предложены механизмы процессов деградации, протекающих под действием разряда. В общих чертах механизм подобен механизму разложения фенола.

Литература

Pera-Titus M., Garcı´a-Molina V., Ban˜os M.A, Gime´nez J, Esplugas S. Appl. Catal. B Environ. 2004.

V. 47. No4. P. 219–256.

Lu N., Li J., Wang X., Wang T., Wu Y. Plasma Chem. Plasma Process. 2012. V. 32. No1. P. 109–121.

Qu G.Z., Lu N., Li J., Wu Y., Guo-Feng Li G.F., Li D. J. Hazard. Mater. 2009. V. 172. No 1. P. 472–478.

Gushchin A.A., Grinevich V.I., Shulyk V.Ya., Kvitkova T.Yu., Rybkin V.V. Plasma Chem. Plasma Process. 2018. V. 38. No1. P. 123–134.

Du C.M., Yan J.H., Cheron B.G. Plasma Chem. Plasma Process. 2007. V. 27. No 2. P. 635–646.

Hao X.L., Zhou M.H., Zhang Y., Lei L.C. Plasma Chem. Plasma Process. 2006. V. 26. No5. P. 455–468.

Yang H., Caixia, Tezuka M. Plasma Chem. Plasma Process. 2013. V. 33. No6. P. 1043–1052.

Манукян А.С., Рыбкин В.В. Промышленное производство и использование эластомеров. 2019. №4.

С. 6–11.

Манукян А.С., Рыбкин В.В. Нефтегазохимия. 2019. №3–4. С. 64–67.

Liu Y., Jiang X. Plasma Chem. Plasma Process. 2008. V. 28. No 1. P. 15–24.

Kuo W.S. Chemosphere. 1999. V. 39. No 11. P. 1853–1860.

Benı´tez F.J., Beltra´n-Heredia J., Acero J.L., Rubio F.J. J. Chem. Technol. Biotechnol. 2001. V. 76. No 3.

P. 312–320.

Tang W.Z., Huang C.P. Chemosphere. 1996. V. 33. No 8. P. 1621–1635.

Benı´tez F.J., Beltra´n-Heredia J., Acero J.L., Rubio F.J. Chemosphere. 2000. V. 41. No 8. P. 1271–1277.

Wang L. Plasma Chem. Plasma Process. 2009. V. 29. No 3. P. 241–250.

Bubnov A.G., Burova E.Yu., Grinevich V.I., Rybkin V.V., Kim J.-K., Choi H.-S. Plasma Chem. Plasma Process.

V. 27. No2. P. 177–187.

Bobkova E.S., Krasnov D.S., Sungurova A.V., Rybkin V.V., Choi H.-S. Korean J. Chem. Eng. 2016. V. 33. No5.

P. 1620–1628.

Bobkova E.S., Isakina A.A., Grinevich V.I., Rybkin V.V. Russ J. Appl. Chem. 2012. V. 85. No1. P. 71–75.

Bobkova E.S., Grinevich V.I., Kvitkova E.Yu., Rybkin V.V. Izv. Vyssh. Uchebn. Zaved. Khim. Khim. Tekhnol.

V. 54. No 8. P. 55–58.

Шутов Д.А., Иванов А.Н., Рыбкин В.В., Манукян А.С. Изв. вузов. Химия и хим. технология. 2020. Т. 63. Вып. 2. С. 91–98.

Thomas J.K. Trans. Faraday Soc. 1965. V. 61. P. 702–707.

Shutov D.A., Sungurova A.V., Choukourov A., Rybkin V.V. Plasma Chem. Plasma Process. 2016. V. 36. No5.

P. 1253–1269.